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F20膜厚測量系統(tǒng)的特點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間：2023-10-30　點(diǎn)擊量：573

F20膜厚測量系統(tǒng)的特點(diǎn)

這是一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低成本、多功能桌面薄膜厚度測量系統(tǒng)，在全球安裝了 5,000 多個(gè)裝置。它可用于廣泛的應(yīng)用，從研究和開發(fā)到制造現(xiàn)場的在線測量。
F20基于光學(xué)干涉法，可以在約1秒內(nèi)輕松測量透明或半透明薄膜的厚度、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點(diǎn)在線測量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信，因此也可以從PLC或主機(jī)進(jìn)行控制。

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主要特點(diǎn)

  • 兼容多種薄膜厚度（1nm 至 250μm）

  • 兼容寬波長范圍（190nm至1700nm）

  • 強(qiáng)大的膜厚分析

  • 光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）

  • 緊湊型外殼

  • 支持在線測量

主要用途

平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學(xué)膜等
半導(dǎo)體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學(xué)鍍膜防反射膜、硬涂層等
薄膜太陽能電池CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等
醫(yī)療保健鈍化、藥物涂層等

產(chǎn)品陣容

模型F20-UVF20F20-HRF20-近紅外F20-EXRF20-UVX
測量波長范圍190 – 1100nm380 – 1050納米440 – 1000nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
膜厚測量范圍1nm – 40μm15納米 – 70微米50納米 – 180微米100nm – 250μm15納米 – 250微米1nm – 250μm
準(zhǔn)確性*膜厚的±0.2%膜厚的±0.4%膜厚的±0.2%
±1nm±2nm±3nm±2nm±1nm
測量光斑直徑1.5mm 或 0.5mm（
最小 0.1mm）可供選擇（可選）
光源

氘·

鹵素

鹵素

氘·

鹵素

*測量 Filmetrics 提供的 Si 基板上的 SiO2 薄膜時(shí)設(shè)備本身的精度。

測量示例

可以測量從半導(dǎo)體等精密加工品到玻璃、汽車零部件等各種樣品的膜厚。

 

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